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無機(jī)非金屬材料公共技術(shù)服務(wù)平臺和山東工業(yè)陶瓷研究設(shè)計(jì)院技術(shù)創(chuàng)新中心設(shè)備采購項(xiàng)目需求公示
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工程名稱:無機(jī)非金屬材料公共技術(shù)服務(wù)平臺和****設(shè)計(jì)院****中心設(shè)備采購項(xiàng)目
預(yù)算金額:本項(xiàng)目總預(yù)算為4670.00萬元
本項(xiàng)目無機(jī)非金屬材料公共技術(shù)服務(wù)平臺和****設(shè)計(jì)院****中心設(shè)備采購,采購內(nèi)容包括高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡(帶噴金)、三維X射線成像分析系統(tǒng)(CT)等49種設(shè)備,具體以招標(biāo)人發(fā)布的招標(biāo)文件和貨物清單為準(zhǔn)。
詳見附件
本項(xiàng)目采購需求公示期限為3天:自2022年11月26日起,至2022年11月28日止。
本項(xiàng)目采購需求方案公示期間接受社會公眾及潛在供應(yīng)商的監(jiān)督。
請遵循客觀、公正的原則,對本項(xiàng)目需求方案提出意見或者建議,并請于2022年11月29日前將書面意見反饋至采購人或者采購代理機(jī)構(gòu),采購人或者采購代理機(jī)構(gòu)應(yīng)當(dāng)于公示期滿5個工作日內(nèi)予以處理。
采購人或者采購代理機(jī)構(gòu)未在規(guī)定時間內(nèi)處理或者對處理意見不滿意的,異議供應(yīng)商可就有關(guān)問題通過采購文件向采購人或者采購代理機(jī)構(gòu)提出質(zhì)疑;質(zhì)疑未在規(guī)定時間內(nèi)得到答復(fù)或者對答復(fù)不滿意的,異議供應(yīng)商可以向監(jiān)督機(jī)構(gòu)提出投訴。
1.采購單位:****
聯(lián)系人:韓淯柯
地址:**市高新區(qū)魯泰大道51號高分子材料園A座
電話(傳真):0533-****3862
2.采購代理機(jī)構(gòu):****
地址:**市高新區(qū)柳泉路286號硅苑科技院內(nèi)四樓413室
聯(lián)系人:高芬
電話(傳真):0533-****011
3.監(jiān)督機(jī)構(gòu):****開發(fā)區(qū)****中心
地址:**市張****創(chuàng)業(yè)園D座
聯(lián)系人:孫喆
電話(傳真):0533-****915
發(fā)布人:****
發(fā)布時間:2022年11月25日
序號 | 設(shè)備名稱 | 技術(shù)參數(shù) | 數(shù)量(臺) | 采購周期 |
1 | 高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡(帶噴金)☆ | 1電子光學(xué)*1.1電子槍類型:肖特基場發(fā)射電子槍(電子槍燈絲質(zhì)保2年);1.2加速電壓:200V-30kV,帶有減速模式;1.3電子著陸能量:20eV-30keV;*1.4束流大�。�1pA-50nA;1.5透鏡(物鏡)幾何結(jié)構(gòu):60°物鏡幾何結(jié)構(gòu):支持傾斜較大的樣品(不規(guī)則樣品);*1.6透鏡(物鏡)組成:復(fù)合末級透鏡:靜電式+磁浸沒; 1.7自動烘烤、自動啟動、無需機(jī)械合軸。2分辨率2.1高真空分辨率(SE二次電子):≤0.5nm@15kV ( BD );*2.2高真空分辨率(SE二次電子):≤1nm@1kV (不開減速,10mm工作距離);*2.3高真空分辨率(SE二次電子):≤0.8nm@1kV ( BD );2.4高真空分辨率(SE二次電子):超低電壓分辨率:≤0.8nm@500V ( BD );2.5 30KV STEM分辨率≤0.7nm。3六探頭探測器系統(tǒng)*3.1 分割式透鏡內(nèi)低位探測器;3.2 透鏡內(nèi)探測器;3.3鏡筒內(nèi)最高位SE電子探頭,收集樣品表面低損耗的SE信息;3.4常規(guī)SE探頭,所有二次電子,背散射電子探頭都可以隨機(jī)選擇,最多4個同時工作;3.5 紅外CCD探測器(觀察樣品臺高度);3.6 智能彩色導(dǎo)航相機(jī)探頭。4真空系統(tǒng)4.1泵的組成:1個PVP渦旋泵+1個分子泵+2個離子泵;*4.2抽真空時間:≤ 3.5 分鐘。5樣品倉*5.1樣品倉內(nèi)徑≥340mm;5.2接口:總共12個,可接能譜3個(1個35°,2個平行180°)。6 五軸全自動樣品臺6.1 XY行程:≥ 110x110mm ,Z向行程≥65 mm;*6.2 傾斜Tilt(°):-15°~ +90°;*6.3 多功能樣品臺:多用途標(biāo)準(zhǔn)支架,最多可支持 18 個標(biāo)準(zhǔn)樣品臺 (Φ12 mm)、3 個預(yù)先傾斜的樣品臺、切片樣品和不需要工具**裝樣品。7軟件7.1圖像輸出分辨率:6144x4096像素,8/16/24位深度BMP、JPG*7.2智能掃描和漂移補(bǔ)償:Smart SCAN(256 幀平均或積分、線積分**均法、隔行掃描),DCFI(漂移補(bǔ)償幀積分)*7.3顯示方式和探測器通道數(shù)量:單幅或4幅圖像實(shí)時顯示,標(biāo)準(zhǔn)4通道,任意兩個探測器的輸入可混合7.4 具有智能對中技術(shù),不再需要用戶手動進(jìn)行對中操作。7.5 FLASH(閃調(diào))自動執(zhí)行精細(xì)調(diào)節(jié)動作。只需移動鼠標(biāo),SEM 就可完成必要的透鏡居中、消像散和圖像聚焦校正。* 7.6 具有自動化及聯(lián)用工作流程軟件套件,可關(guān)聯(lián)micro CT、SEM、DualBeam 和 TEM 等多種系統(tǒng)提供的圖像數(shù)據(jù),可獲得多尺度背景信息,更加深入地分析完整樣品。* 7.7 配有大視野高倍率拼接軟件,針對樣品大視野高倍率觀察,可自動進(jìn)行拍攝和拼圖,無限量拼圖張數(shù),自動化采集并拼接。8 配備噴金濺射儀1臺8.1樣品臺直徑≥50mm,靶到樣品臺距離≥45mm,高度可調(diào);8.2最大樣品尺寸:直徑≥50mm;8.3靶材:附帶Au靶材1個。 | 1 | 6個月 |
2 | 三維X射線成像分析系統(tǒng)(CT)☆ | 1 分辨率要求:*1.1空間分辨率(spatial resolution)優(yōu)于1μm,實(shí)際樣品測試時能實(shí)現(xiàn)體素分辨率 (voxel size)≤470nm清晰三維成像,需提供實(shí)際樣品的測試結(jié)果;*1.2當(dāng)X射線源距樣品旋轉(zhuǎn)軸25mm時,最佳體素分辨率≤3.5μm,需提供實(shí)際樣品的測試結(jié)果。2 X射線源*2.1封閉式透射型X射線源,最高工作電壓≥160 kV,最大功率≥10 W;2.2 X射線源可移動,范圍(X射線方向)≥190mm; 2.3配備過濾器轉(zhuǎn)換支架,包含不少于13個適用于不同能量段掃描的濾片;2.4可以進(jìn)行長時間穩(wěn)定掃描,單次穩(wěn)定掃描時間需大于24小時。3 探測器*3.1 CMOS平板探測器,像素點(diǎn)數(shù)量≥3072×1944,像素點(diǎn)尺寸≤75 μm;3.2單次掃描視野(FOV)不小于140mm/90mm(直徑/高度);3.3可通過縱向拼接技術(shù)獲得直徑不小于140mm高度不小于165mm的視野;*3.4 CMOS探測器可移動,移動范圍≥470mm。4高精度樣品臺4.1全電腦控制4軸樣品臺;*4.2 X軸運(yùn)動范圍≥50mm,Y軸運(yùn)動范圍≥100mm,Z軸運(yùn)動范圍≥50mm,R軸:n×360°;*4.3最大可測樣品:重量≥25kg,直徑≥300mm,高≥500mm。5 X射線防護(hù)系統(tǒng)*5.1為最大程度上防護(hù),安全屏蔽室需采用鉛鋼全封閉,不能留有可視透明窗口,設(shè)備內(nèi)部樣品和工作情況通過機(jī)臺內(nèi)部可見光相機(jī)清晰觀察,輻射安全等級需為最安全的Ⅲ類射線裝置;5.2在距離外殼表面上25mm 處進(jìn)行測量,X射線泄漏率<1μSv/h 。6 操作系統(tǒng)6.1系****工作站:用于控制設(shè)備及采集圖像,應(yīng)滿足或優(yōu)于以下配置,雙8核CPU,內(nèi)存≥32GB,硬盤≥8TB,LED液晶顯示器≥24",帶可刻錄式DVD光驅(qū);6.2操作控制臺采用人體工學(xué)搖臂設(shè)計(jì),可以上下左右任意方向移動,滿足客戶不同工作姿態(tài)的需要;6.3應(yīng)具備自動防撞機(jī)制,可根據(jù)樣品形狀和輪廓,自動對源、探測器位置進(jìn)行限位,以保證硬件和樣品安全;6.4成像軟件系統(tǒng):具有數(shù)據(jù)采集軟件,三維斷層掃描圖像重構(gòu)軟件,3D視圖軟件;6.5圖像重構(gòu)速度:1500張1.5k×1k投影重構(gòu)圖像數(shù)據(jù)(重構(gòu)1000張Slice圖像)的時間不超過3分鐘;*6.6具備自動掃描功能,自動對同一樣品50個以上不同區(qū)域進(jìn)行三維成像掃描和重構(gòu);6.7操作自動化具備:定位放大掃描、導(dǎo)航式掃描等功能;6.8掃描方式具備:垂直拼接、180度掃描等功能;6.9改善成像質(zhì)量具備:二次背景參照等功能;6.10系統(tǒng)矯正具備:樣品移動自適應(yīng)矯正功能、溫度移動的矯正功能、圖像比對位移參照矯正等功能;6.11成像模式具備:吸收襯度、基于邊緣折射傳播的相位襯度成像功能;6.12 具備與掃描電鏡,光學(xué)顯微鏡, FIB等設(shè)備關(guān)聯(lián)使用的功能,三維分析系統(tǒng)的結(jié)果可以在這些設(shè)備中被尋找到感興趣區(qū)域進(jìn)行更高分辨率的成像和加工。 | 1 | 6個月 |
3 | 變溫網(wǎng)絡(luò)分析測試系統(tǒng) | 1.測量參數(shù):介電常數(shù),損耗角正切,頻率范圍:1MHz~1GHz,溫度范圍:-40℃~150℃;2.測量參數(shù):介電常數(shù)、磁導(dǎo)率等, 頻率范圍:2GHz~40GHz,測量精度:常溫 1%,高溫下3%,溫度范圍:常溫~800℃溫波導(dǎo);3.測量參數(shù):介電常數(shù)、磁導(dǎo)率等,頻率范圍:1GHz 至 18GHz;4.測量參數(shù):介電常數(shù)、損耗角正切,測試頻點(diǎn):1.1GHz、2.5GHz、5GHz、10GHz、15GHz, 溫度范圍:-45~90℃;高壓支持范圍:2000V,高低溫頻率范圍:DC-40MHz;5.測試系統(tǒng)包含高頻網(wǎng)絡(luò)分析儀、材料高溫傳輸測試部分、材料變溫射頻測試部分、材料變溫分離測試部分、材料變溫高壓測試部分和整套系統(tǒng)綜合軟件平臺;6.根據(jù)應(yīng)用軟件清單及配置參數(shù)安裝應(yīng)用軟件。 | 1 | 4個月 |
4 | PZT傳感材料薄膜制備系統(tǒng) | 1.30min內(nèi),反應(yīng)腔體可從大氣抽真空至5E-6Torr,本底極限真空:< 3E-7Torr,該系統(tǒng)配備自動進(jìn)樣室可傳遞4-6寸硅片;2.磁控濺射靶槍,不少于4組尺寸≥3英寸磁控濺射靶槍(性能不低于Angstron、HHV等),靶材利用率≥35%;3.配備RF射頻源,射頻電源頻率:13.56兆赫茲,功率:不低于600W;4.系統(tǒng)濺射真空度在10-4torr,濺射成膜更致密,能濺射超薄氧化物膜層;5.配備直流、射頻濺射電源(可兼容直流脈沖、HIPIMS等),恒流,恒壓,恒功率模式可選;6.4-6英寸膜厚不均勻性優(yōu)于±5%;7.系統(tǒng)加熱最高溫度600°,600℃內(nèi)控溫精度優(yōu)于±1.5%,具備等離子清洗功能,功能全面,使用靈活,適合于工藝研發(fā)及教學(xué)生產(chǎn)要求;8.系統(tǒng)配備自動進(jìn)樣室,自動搬運(yùn)旋轉(zhuǎn)機(jī)械手送取樣品。 | 1 | 4個月 |
5 | X射線熒光光譜儀 | 1.射線發(fā)生器最大輸出功率大于4.2kW,額定電壓≥70 kV,額定電流≥140mA;2.X 射線光管:銠 (Rh), 鈹窗厚度≤50μm,樣品激發(fā)距離≤16 mm,下照射方式;3.固態(tài)高頻發(fā)生器:外電壓波動1%,輸出電壓的穩(wěn)定性為0.00005%;4.測角儀:最新一代莫爾條紋定位技術(shù),數(shù)字或光學(xué)定位,最大定位轉(zhuǎn)速≥4800°/min,樣品旋轉(zhuǎn)不小于60rpm/min;5.探測器:流氣正比計(jì)數(shù)器、閃爍計(jì)數(shù)器,F(xiàn)PC線性范圍不小于3000 kcps,SC線性范圍不小于2200kcps;6.光路:初級準(zhǔn)直器采用程序控制,自動切換,配置初級準(zhǔn)直器數(shù)量不少于4 個,最優(yōu)化分析從超輕元素到重元素,最多可安裝9塊晶體,每塊晶體可單獨(dú)加熱控溫,整個光譜室溫度穩(wěn)定在±0.05℃;7.配備雙位置進(jìn)樣系統(tǒng)和粉塵收集系統(tǒng);8.配置無標(biāo)樣定量分析軟件。 | 1 | 6個月 |
6 | 陶瓷粉末3D打印系統(tǒng) | 1.成形尺寸(mm): 800*800*500;2.制件精度:±0.2 mm(≤200mm),±0.1% mm(>200mm);3.分層厚度:0.08~0.3mm連續(xù)可調(diào);4.成型材料:PS粉、覆膜砂;5.激光器:功率120W,功率控制連續(xù)可調(diào),使用壽命30000小時以上;6.振鏡動態(tài)聚焦掃描系統(tǒng),焦平面光斑尺寸: ≤0.8mm,焦深:10mm,最大掃描速度:8m/s,掃描器重復(fù)定位精度≤0.02mm;7.供料裝置:自動上送料。 | 1 | 4個月 |
7 | 下沉式陶瓷光固化3D打印 | 1.聚焦平面光斑尺寸:≤0.040mm;2.激光光源波長:405nm3.激光最大功率:≥3W;4.激光光束質(zhì)量:M2<1.3;5.采用振鏡,振鏡通光口徑≥10mm;6.分層厚度: 20-150μm可調(diào);7.成型缸為圓柱形,直徑為Φ105~115mm之間,高140~160mm之間;8.加工件精度:±0.1mm/100mm;±0.05mm/10mm9.設(shè)備自帶≥15吋的人機(jī)交互觸摸屏、鼠標(biāo)和鍵盤,采用windows64bit系統(tǒng),參數(shù)開放,可調(diào)節(jié)的參數(shù)包括:激光輸出功率、光斑尺寸、激光焦點(diǎn)、激光掃描速度、鋪料速度、供料速度。 | 1 | 4個月 |
8 | 電介質(zhì)充放電測試系統(tǒng) | 1.內(nèi)置示波器及 10kV高壓電源,測試電壓: 10kV (由所選高壓開關(guān)決定);2.樣品電容: < 100pF to >100μF;3.放電最大電流: < 15A(放電開關(guān)型號決定);4.放電電阻: <1Ω to >1MΩ;5.放電速度: 高壓MOSFET開關(guān), 放電速度<100納秒。 | 1 | 4個月 |
9 | 薄膜厚度測量儀 | 1.集成光譜儀/光源裝置、光纖電纜、整平濾波器;2.測試厚度范圍:15nm-70μm;3.波長選配:380-1050nm。 | 1 | 4個月 |
10 | 熱膨脹儀 | 1.溫度范圍:RT~1600℃;2.樣品:長度0--52mm,直徑0--12mm;3.分辨率(全量程):2nm;4.溫度準(zhǔn)確度:1K;5.CTE(平均線膨脹系數(shù))重復(fù)性:10-8 1/K。 | 1 | 4個月 |
11 | 流變儀 | 1.形式:定負(fù)荷擠出式(砝碼加載);2.測量范圍:不小于1×101~1×106Pa.s;3.溫度范圍:室溫~+400℃;4.控制精度:誤差≤±0.2℃。 | 1 | 4個月 |
12 | ****工作站 | 1.電位精度:±2mV±0.2%;2.恒電位范圍:10V;3.電流范圍:10nA~1A;4.交流阻抗頻率范圍:10uHz~1MHz;5.測試系統(tǒng)配置電壓源、電子負(fù)載、氫氮發(fā)生器、氣體流量控制器、氣體流量計(jì)和微流注射泵。 | 1 | 4個月 |
13 | 攪拌脫泡機(jī)系統(tǒng) | 1.包括最大容量為1000g*2、400g*2和250g(含有容器等等的總量)的三種規(guī)格,其中250g最大容量的為2臺;2.三種規(guī)格的公轉(zhuǎn)速度:分別大約為220-1000rpm、270-1410rpm和640-1700rpm;3.自轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速是對應(yīng)公轉(zhuǎn)約 0-0.94 倍;4.時間設(shè)定:(10-990秒)X3 步驟,最長運(yùn)行時間 990 秒(10 秒單位);5.滿足金屬漿料和陶瓷漿料的混合分散的要求。 | 4 | 4個月 |
14 | 可視化高溫形變分析儀 | 1.溫度范圍:室溫~1600℃;2.控溫精度:±1℃;3.樣品腔直徑:Ф60mm(外)/Ф50mm(內(nèi));5.光學(xué)系統(tǒng):定制LED冷光光源。 | 1 | 4個月 |
15 | 氣相色譜儀 | 1.控溫范圍:室溫加6℃~399℃;2.分流/不分流毛細(xì)進(jìn)樣系統(tǒng)EPC控制系統(tǒng),隔膜吹掃,分流;3.氫火焰檢測器:FID;4.熱導(dǎo)池檢測器:TCD。 | 1 | 4個月 |
16 | 脫硝催化劑活性智能檢測系統(tǒng) | 1.催化劑容量25.5mm*25.5mm;2.NOx、O2、溫度、活性能夠?qū)崟r顯示及記錄輸出;3.自動控溫、NOx監(jiān)測精度1ppm;4.氣體流量精度10ml/min;5.軟件能夠自動繪制O2、NOx、溫度、活性曲線。 | 1 | 4個月 |
17 | 雙恒電位儀 | 1.恒電流控制范圍:±2.0A;2.電位控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù)±1mV;3.電流控制精度:0.1%×滿量程讀數(shù);4.電位分辨率:10V(>100Hz), 3V(<10Hz)。 | 1 | 4個月 |
18 | 陶瓷激光切割機(jī)組 | 1.XY直線電機(jī)的行程有400mm×400mm和500mm×500mm兩種;2.QCW激光器有150瓦和300瓦兩種;3.X Y軸定位精度為±0.02mm,重復(fù)定位精度為±0.005mm,可識別調(diào)用CADdxf 格式文件并進(jìn)行加工;4.視覺采用CCD組件和定制視覺軟件;5.6KW/AC380V/50Hz電壓波動:10%,如超出波動范圍,配置穩(wěn)壓器;6.提供管道氣體增壓裝置和工業(yè)吸塵器,用于切割使用(壓力可調(diào),保證輸出壓力:空載≥1.5MPa;負(fù)載≥1.2MPa,潔凈度 99.99%);7.常規(guī)產(chǎn)品切割效率為100mm/s,縫寬<40um,切割面整齊,劃線斷面相對一致。 | 2 | 4個月 |
19 | 雙面研磨機(jī)組 | 1.游星輪參數(shù):柱銷齒柱銷直徑¢10,節(jié)距19.3,齒數(shù)有52和68兩種規(guī)格;2.加工工件厚度:0.2mm≤b≤30mm;3.最大加工尺寸有Φ290mm和Φ370mm兩種規(guī)格;4.磨盤轉(zhuǎn)速:0~50rpm。 | 2 | 4個月 |
20 | 雙面研磨拋光機(jī) | 1.游星輪參數(shù):Z=154/m=DP12;2.加工平面度/平行度:0.001mm;3.最大加工尺寸:Φ295mm;4.磨盤轉(zhuǎn)速:3~45rpm。 | 1 | 4個月 |
21 | 高速復(fù)合雕銑機(jī) | 1.主軸直徑:80mm;2.轉(zhuǎn)速:40000轉(zhuǎn);3.工作行程:570*450*160mm;4.定位精度:0.008mm/300mm5.刀庫:10把刀。 | 1 | 4個月 |
22 | 單面拋光機(jī) | 1.盤面直徑:609mm;2.盤面轉(zhuǎn)速:0~87rpm;3.BLOC/陶瓷盤直徑:壓力板直徑227.8mm。 | 1 | 6個月 |
23 | 純水機(jī)系統(tǒng) | 1.電阻率:15ΜΩ﹒cm(25℃);2. 顆粒 ≤10(≥0.1~0.5μm)個/L,過濾精度0.1微米;3. 總有機(jī)碳 ≤20ppb;4. 壓力≥0.3±0.5MPa;5. 產(chǎn)水量:0.5T/h;6.基本配置流程:UF膜→兩級反滲透→EDI→氮封水箱→UV/TOC。 | 1 | 4個月 |
24 | 濕法清洗系統(tǒng) | 1.具備6英寸及其以下尺寸薄膜基板(半導(dǎo)體硅片、石英玻璃、陶瓷等)濕法精密清洗能力,實(shí)現(xiàn)手動清洗和自動脫水甩干功能。2.提供清洗器具、半導(dǎo)體硅片、石英玻璃濕法精密清洗工藝。3.最大清洗薄膜基板(半導(dǎo)體硅片、石英玻璃、陶瓷等)尺寸:不小于6英寸,向下兼容。4.清洗后,表面殘留粒徑大于0.3μm顆粒數(shù)不超過60個(4英寸襯底)。5.清洗后,采用50X~200X顯微鏡觀察,基板表面不得存在任何點(diǎn)子、印跡。6.通風(fēng)操作臺:尺寸不小于1500mmx850mmx2000mm(寬*深*高),電子級PP板,板厚不低于8mm,承重不小于50kg。7.超聲清洗系統(tǒng):內(nèi)槽尺寸≥500x280x200mm(長x寬x高);超聲頻率40~68KHz;最大超聲功率≥400W,功率可調(diào);加熱功率:500W~800W;加熱溫度范圍:常溫~80℃。8.沖洗甩干系統(tǒng):工作轉(zhuǎn)速300~2400r/min,可根據(jù)工藝設(shè)置、調(diào)整;氮?dú)膺M(jìn)氣壓力0.23~0.28MPa;氮?dú)夂牧?15~180L/min(單個工作腔)。 | 1 | 4個月 |
25 | 原子層沉積系統(tǒng) | 1.標(biāo)準(zhǔn) PE 反應(yīng)腔室,最大可放置直徑8英寸樣品,兼容小尺寸樣品; 2. 反應(yīng)溫度最高 400℃;3. 3路液態(tài)前驅(qū)體源; 4. 高性能真空系統(tǒng); 5. ICP 遠(yuǎn)程等離子體系統(tǒng); 6. 2 路等離子體氣源;7. PLC+工控機(jī)沉積自動控制系統(tǒng)。 | 1 | 6個月 |
26 | 無油空壓機(jī)組 | 1.排氣量:2.5m3/min;2.排氣壓力:7KG 15KW/20HP; 3.冷干機(jī)/吸干機(jī)和過濾器;4.不銹鋼儲氣罐1000L(8bar);5.露點(diǎn)溫度≤-40℃;6.油氣含量≤0.01ppm。 | 1 | 4個月 |
27 | 光刻機(jī) | 1.曝光面積:160mmX160mm;2.曝光波長:365nm;3.分辨力:≤1μm; 4.對準(zhǔn)精度:優(yōu)于0. 8μm; 5.掩模樣片整體運(yùn)動范圍:X:≥15mm,Y: ≥15mm。 | 1 | 4個月 |
28 | 等離子表面處理儀 | 1.功率可調(diào)0.3W;2.電源40KHz;3.高效真空泵帶油霧過濾器。 | 1 | 4個月 |
29 | 勻膠機(jī) | 1.基片尺寸:5~150mm;2.速度范圍:1~10000rpm;3.膠均勻性:±1%。 | 1 | 4個月 |
30 | 精密視覺對位印刷機(jī) | 1.基片最大面積:6 英寸;2.適用網(wǎng)框尺寸:320mm×320mm×16.7mm;3.印刷速度:10~350mm/sec;4.工作臺重復(fù)定位精度:±0.001mm。 | 1 | 4個月 |
31 | 溫等靜壓機(jī) | 1.工作壓力:80MPa(可多段加壓);2.工作溫度:室溫~80℃,溫度自由可設(shè)定;3.腔體有效內(nèi)徑:φ300mm;4.腔體有效深度:400mm;5.保壓波動范圍:±0.1Mpa。 | 1 | 4個月 |
32 | 陶瓷膜帶加工系統(tǒng) | 1.切片機(jī)的性能指標(biāo):1.1卷料內(nèi)徑:6英寸;1.2切片精度:±0.3mm;1.3生瓷帶厚度:0.1mm~0.5mm;1.4切片周期:6秒/片。2.打孔機(jī)(無框)的性能指標(biāo):2.1上下料方式:自動;2.2生瓷片規(guī)格:152.4mm×152.4mm ±0.30mm;2.3沖孔精度:有效范圍內(nèi) ±10μm;2.4沖孔單元數(shù)量:4套CK-30型沖孔單元。3.印刷機(jī)(半自動)的性能指標(biāo):3.1最大加工尺寸:150mm×150mm;3.2視覺對位精度:±5μm;3.3上下料方式:手動;3.4印刷速度:10秒/片(不包含印刷運(yùn)動時間)。4.整平機(jī)的性能指標(biāo):4.1料片規(guī)格:152.4mm×152.4mm;4.2加熱部件: 上、下臺加熱;4.3平臺溫度均勻性: ±3℃;4.4加熱最高溫度:100℃。5.撕膜臺的性能指標(biāo):5.1料片規(guī)格:152.4mm×152.4mm;5.2生瓷片厚度:≥0.1mm;5.3上下料方式:手動;5.4除靜電功能: 有。6.疊片機(jī)的性能指標(biāo):6.1生瓷片規(guī)格:152.4mm×152.4mm ±0.3mm,帶PET膜;6.2生瓷片厚度:20μm--100μm;6.3上下料方式:全自動(料片可堆疊放置);6.4對位方式及重復(fù)精度:雙相機(jī)視覺對位,±5μm;6.5定位方式:真空吸附。7.印刷檢測儀(圖形)的性能指標(biāo):7.1最大掃描尺寸:203mm×203mm;7.2可到線寬/間距:1.0 mil;7.3產(chǎn)品厚度:≤1.0mm;7.4上下料方式:手動;7.5檢測方式:自動。 | 7 | 4個月 |
33 | 熱切機(jī) | 1.工作臺移動范圍:Y 方向330mm,Z 軸30mm,轉(zhuǎn)動角度150° ;2.對位精度:Y軸±0.005 mm,Z軸±0.005 mm,θ軸±0.001°;3.工作溫度:切割刀片的溫度在室溫~100℃范圍內(nèi)可調(diào)節(jié)、工作臺溫度在室溫~100℃范圍內(nèi)可調(diào)節(jié),溫度均勻性±3℃;4.切割尺寸:152mm~203mm;5.定位精度:±0.005mm;6.切割精度:±0.02mm。 | 1 | 4個月 |
34 | 填孔機(jī) | 1.最大可填充尺寸:11.5”X 11.5”; 2.最大產(chǎn)品尺寸:12”X 12”; 3.最小填充孔的直徑:0.05mm;4.注射壓力:0~60psi 連續(xù)可調(diào);5.工作臺調(diào)整精度:±0.01mm。 | 1 | 4個月 |
35 | 熱風(fēng)循環(huán)脫脂爐 | 1.燒成溫度:使用溫度 800℃;2.有效裝載尺寸:800×800×800mm;3.升溫速率:300℃/h;4.溫度均勻性:±10℃。 | 1 | 4個月 |
36 | 廢氣凈化高溫推車爐系統(tǒng) | 1.推車爐的燒成溫度 : 使用溫度 1650℃;2.推車爐的有效裝載尺寸: 900(D)×400(W)×400(H)mm;3.推車爐的升溫速率:300℃/h;4.推車爐的溫度均勻性:±10℃;5.廢氣凈化爐的使用溫度:最高 800℃;6.通過引風(fēng)機(jī)強(qiáng)制抽取主設(shè)備燒結(jié)時所產(chǎn)生的有機(jī)物質(zhì),最大處理量為150m3/h;7.爐膛體尺寸:450(L)×450(W)×570(H)mm。 | 4 | 4個月 |
37 | 升降爐 | 1.燒成溫度:常用使用溫度1600℃;最高使用溫度1650℃;2.有效裝載尺寸: 1500(L)×500(W)×650(H)mm;3.升溫速率:300℃/h;4.溫度均勻性:±10℃。 | 1 | 4個月 |
38 | 真空氣氛箱式爐 | 1.氮?dú)饧捌渌栊詺怏w:常用使用溫度 1900℃;最高使用溫度 2000℃;2.爐內(nèi)氣氛:真空置換方式,采用干式螺旋真空泵配進(jìn)排氣過濾器;3.升溫速率:200℃/h;4.爐膛體尺寸(炭內(nèi)膽):φ520×1070Lmm;5.有效裝載尺寸:約270×810×320 mm;6.溫度均勻度:±15℃。 | 1 | 6個月 |
39 | HTCC實(shí)驗(yàn)燒結(jié)爐 | 1.燒成溫度:使用溫度1650℃;2.爐內(nèi)氣氛:H2(13%)+N2(87%),采用氣體置換方式;配有加濕器;升溫速率:200℃/h;3.有效裝載尺寸:約250×250×250mm;4.均溫區(qū)尺寸:約230×230×230mm ;5.溫度均勻度:±5℃;6.燒成氣氛:H2(13%)+N2(87%)混合氣、氮?dú)鈿夥盏取?/td> | 1 | 6個月 |
40 | 連續(xù)滾道退火爐 | 1.設(shè)計(jì)最高爐溫:500℃ ;2.工作溫度:≤400℃; 3.控溫精度:±1.5℃;4.溫度均勻度:±2℃;5.空爐升溫時間:≤0.5小時;6.滾道有效寬度: 260mm;7.爐膛尺寸:1200*300*80mm(長×寬×高)。 | 1 | 4個月 |
41 | 快速退火爐系統(tǒng) | 1.使用溫度范圍有150~1000℃和100~1300℃兩種規(guī)格;2.系統(tǒng)處理樣品的最大尺寸有6英寸和4英寸兩種規(guī)格,其中4英寸為2臺,6英寸為1臺;3.溫度均勻性:±5度(穩(wěn)態(tài));4.最大降溫速率:80℃/秒。 | 3 | 4個月 |
42 | 1700箱式氣氛爐+水冷機(jī)+真空泵 | 1.最高使用溫度:1700℃,額定溫度:1650℃;2.爐膛尺寸:200*200*200mm;3.使用水冷進(jìn)行降低控制;4.真空度達(dá)100Pa以下。 | 1 | 4個月 |
43 | 1750高溫箱式爐(36L/8L /3.4L) | 1.最高使用溫度:1750℃,工作溫度:1700℃2.爐膛尺寸有3種規(guī)格:300*400*300mm、200*200*200mm和150*150*150mm,其配置的臺數(shù)分別為5、5和10;3.爐內(nèi)的恒溫控制精度:±1度;4.溫度均勻性:±5度。 | 20 | 4個月 |
44 | 電池涂布制備系統(tǒng) | 1.加熱型平板涂覆機(jī):MSK-AFA-HC100,含外置真空泵,含刮刀KTQ-80F,可手套箱使用;2.液壓平衡電動對輥機(jī):MSK-2300A液壓平衡電動對輥機(jī)PLC程序控制系統(tǒng);3.鋁塑膜成型機(jī):MSK-120,含4662模具,24V,ULR;4.間歇型實(shí)驗(yàn)涂布機(jī):MSK-AFA-EI300,含MSK-50取樣器,含軟件,220V;5.壓力可控電動扣式電池封口機(jī):MSK-E110,含Φ20封口模具,A1,220V,ULR/含軟件;6.連續(xù)分切機(jī):MSK-540-II,含2*56和2*58刀座小車一套,1分4條,220V;7.隔膜分切機(jī):MSK-540-III,含5*60圓形刀和片式刀刀座小車一套,1分5條,220V;8.電池涂布系統(tǒng)還包含溶劑處理系統(tǒng)、真空干燥箱、手動切片機(jī)和真空泵等輔助設(shè)備。 | 11 | 4個月 |
45 | 電化學(xué)測試系統(tǒng) | 1.5V10mA一體機(jī);2.測試系統(tǒng)有160通道/臺和80通道/臺,其中160通道的裝置為2臺和80通道的裝置為1臺;3.測試溫度范圍為0~60度。 | 3 | 4個月 |
46 | ****工作站 | 1.最大電流: ±1A標(biāo)配,可擴(kuò)展到±10A;2.最大輸出電壓:±20V;3.施加電位范圍:-10V ~ +10V;4.恒電位儀帶寬:>500kHz;5.通道數(shù):4,可擴(kuò)展到 16個通道。 | 1 | 4個月 |
47 | 手套箱 | 1.水氧指標(biāo):小于1ppm;2.泄露率:小于0.001vol%/h;3.材料:304不銹鋼,厚度3mm;4.過濾器:規(guī)格 0.3微米,1個氣體入口和1個氣體出口;5.工作氣體:氮?dú)狻鍤�,循環(huán)能力:集成風(fēng)機(jī)流量 90m3/h,加裝變頻。 | 1 | 4個月 |
48 | 全自動全套反應(yīng)釜 | 1.設(shè)計(jì)溫度:90度,溫控精度:±0.5度;2.攪拌轉(zhuǎn)速:0~1200轉(zhuǎn)/分鐘;3.容積:5L,不銹鋼材質(zhì)。 | 1 | 4個月 |
49 | 雙動力納米砂磨機(jī) | 1.凈容量:2L;2.轉(zhuǎn)速:2800轉(zhuǎn)/分,13m/s-14m/s(線速度);3.20L雙層不銹鋼循環(huán)罐;4.0.5寸氣動隔膜泵。 | 1 | 4個月 |
合計(jì) | 96 |
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